Литограф для выпуска чипов
В нижегородском Институте прикладной физики РАН разрабатывают первый отечественный литограф для выпуска чипов по топологии 7 нм.
На данный момент учеными РАН создан первый демонстрационный образец оборудования. На этой установке получены отдельные изображения на подложках с разрешением до предельных 7 нм.
Сейчас «Микрон» — единственный в России контрактный вендор полупроводников, способен выпускать относительно современные чипы.
На предприятии освоен выпуск микросхем по топологии 65 нм, но лишь для штучных партий — инженерных образцов.
Массовое производство налажено лишь для топологии не ниже 90 нм, что по современным меркам — «прошлый век». К примеру, тайваньская TSMC начала освоение двухнанометровой нормы производства чипов и процессоров еще в июне 2019 г.
Шесть лет на разработку
Промышленный образец отечественного литографа на 7 нм планируется создать через шесть лет. Так, в 2024 г. будет создана «альфа-машина». Такая установка станет рабочим оборудованием, на котором можно будет проводить полный цикл операций.
На втором этапе в 2026 г. появится «бета-машина». Системы оборудования будут улучшены и усложнены, увеличится разрешение, повысится производительность, многие операции будут роботизированы, отмечается на сайте нижегородской стратегии. Установку уже можно будет применять на масштабных производствах.
На третьем этапе (2026-2028 гг.) отечественный литограф получит более мощный источник излучения, улучшенные системы позиционирования и подачи, и начнет полноценную работу.
Оборудование в России и в мире
Оптическая система демонстратора, собранная в ИПФ РАН, уже превосходит все аналоги, существующие в мире на сегодняшний день, считает замдиректора Института физики микроструктур РАН по научно-технологическому развитию Николай Чхало.
По сравнению, например, с литографами крупнейшего производителя литографического оборудования для микроэлектронной промышленности ASML в нижегородской модели источник излучения в разы компактнее и чище в работе, отметил Чхало. По его словам, последнее обстоятельство значительно влияет на стоимость, размеры и сложность оборудования.
На выходе при равной мощности источника излучения отечественная установка будет в 1,5-2 раза эффективнее того, что создано ASML.
Оборудование для микросхем
В мае 2022 г. стало известно о планах «Микрона» совместно с «Московским институтом электронной техники» (МИЭТ) и Зеленоградским нанотехнологическим центром разработать оборудование для производства микросхем топологического уровня 28 нм и меньше.
Оборудование планируется создать на базе действующих и запускаемых в стране синхротронов (в ТНК «Зеленоград», НИЦ «Курчатовский институт»), а также на базе отечественных плазменных источников.
Источник информации https://ipfran.ru/
